ECSEL 2014 RIA OSIRIS Norstel AB

Diarienummer 2015-00994
Koordinator Norstel Aktiebolag
Bidrag från Vinnova 2 232 447 kronor
Projektets löptid maj 2015 - januari 2019
Status Avslutat
Utlysning Ecsel

Syfte och mål

Att utveckla en produktionsmetod och att tillverka isotop ren kiselkarbid. Indikationer finns på att isotopren kiselkarbid har högre termisk ledningsförmåga än kiselkarbid med den naturliga isotop fördelningen. Projektet har som mål att demonstrera tillverkning av material och att tillverka halvledarkomponenter för hög frekvens (GaN HEMT) och hög spänning (SiC PIN) för att verifiera om den förbättrade värmeledningen från komponenternas aktiva del förbättrar prestandan på komponenterna.

Resultat och förväntade effekter

Projektet har demonstrerat tillväxt av isotop ren kiselkarbid av hög kvalitet. Materialet har precis som förväntat högre termisk ledningsförmåga än kiselkarbid med naturlig isotop fördelning. Högfrekvenskomponenterna blir mer robusta vilket innebär än förbättrad livslängd medan inte någon större skillnad inte kunnat demonstrants för kraftkomponenterna.

Upplägg och genomförande

Linköping universitet (Sverige) har tillverkat skikt med isotopren kiselkarbid på substrat från Norstel (Sverige). Sedan har komponenter tillverkats och verifierats på Ascatron (Sverige) och Thales III-V lab (Frankrike). Övriga deltagare i projektet har arbetat med framställning av metoder för att tillverka gas med isotopren kisel, olika mätningar och simuleringar på material och komponenter.

Externa länkar

Hemsida för projektet med information om mål, bakgrund, nyhetsbrev, projektvideo och deltagare.

Texten på den här sidan har projektgruppen själv formulerat och innehållet är inte granskat av våra redaktörer.