ENIAC PROMINENT MEMS-tillverkning förstärkt med bläckstrålemetoder SILEX

Diarienummer 2012-04301
Koordinator Silex Microsystems AB
Bidrag från Vinnova 3 083 850 kronor
Projektets löptid mars 2013 - juni 2016
Status Avslutat

Syfte och mål

Syftet med projektet var att undersöka maskfria, digitala och additiva tillverknings metoder istället för de subtraktiva processer, som används inom MEMS tillverkning tidigare. Genom anv av bläckstråleskrivare (IJP) har målet att de initiala investeringskostnaderna i tillverknings utr kan sänkas visats, större flexibilitet vid tillvn. ges och nya MEMS funktioner kan erhållas. Målet, att ersätts subtraktiva processer med de nya innovativa additiva tillverkningsmetoderna, uppnåddes. MEMS tillverkningen blir mer flexibel &kosteffektiv vilket är en konkurrensfördel SILEX

Resultat och förväntade effekter

Som en del av demonstratorerna relaterad till Billiga metoder för via fyllning och 3D integration, utvecklade Silex tillsammans med mikrosystemteknik (MST) institutionen på Kungliga Tekniska Högskolan (KTH) nya TSV och TGV koncept genom att använda digitala tillverkningsprocesser. Silex utvecklade även en ny ´wafer level cappping´ teknologi för RF MEMS genom att använda den innovativa nya TGV teknologin i glas, vilken visade hög linjäritet och låga RF-förluster. Under 2016 har Silex börjat kommersialisera denna nya teknologien.

Upplägg och genomförande

Som workpackage (WP) ledare för Billiga metoder för förbindelsefyllningen och 3D integration, Deponering av funktionella material och Bonding, samordnade Silex arbetet och fokuserade på TSV och TGV tillverkning med hjälp av additiva metoder och bonding på skivnivå med bläckstråleskrivna bondramar för hermetisk tillslutning. Tillsammans med partners inom konsortiet, var dessa nyckeltekniker demonstrerade och benchmarked, med avseende på prestanda och kostnader. Resultaten sammanfattade i ett vetenskapligt manuskript inskickat till Nature för publicering.

Externa länkar

Projektets hemsida med länkar till publicerade artiklar och patent samt mer detaljerad beskrivning av resultaten.

Texten på denna sida har projektgruppen själv formulerat och innehållet är ej granskat av våra redaktörer. Projektets koordinator kan ge dig mer information.