Smart styrning av plasmaprocesser inom tunnfilmsbeläggning för halvledarindustrin

Syfte och mål

Projektet syftar till att utveckla en smart, digitaliserad HiPIMS-baserad PVD-plattform med plasmageneratorer, integrerad realtidsdiagnostik och automatiserad processkontroll. Målet är att möjliggöra stabil, reproducerbar och konform tunnfilmsbeläggning på komplexa 3D-strukturer i halvledarapplikationer. Genom att styra jonisering och flödesfördelning i realtid skapas förutsättningar för högre kvalitet, effektivare processer och industriell skalbarhet.

Förväntade effekter och resultat

Projektet levererar en integrerad HiPIMS-plattform med realtidsdiagnostik och automatiserad processkontroll. Resultatet blir stabil, reproducerbar och konform tunnfilmsbeläggning på komplexa 3D-strukturer. Detta ger ökat materialutnyttjande, högre utbyte och lägre energiförbrukning. Tekniken möjliggör snabbare processutveckling, minskade kostnader och stärker Europas konkurrenskraft inom avancerad halvledartillverkning.

Planerat upplägg och genomförande

Projektet genomförs i fem arbetspaket som omfattar diagnostik, utveckling av styrsystem och kraftaggregat samt integration och validering i industriell miljö. Iterativ utveckling kombineras med realtidsmätningar och modellering för att möjliggöra automatiserad processkontroll. Tester sker i både labb- och industriskala. Projektet leds av Ionautics med tydlig ansvarsfördelning mellan industri och akademi samt kontinuerlig projekt- och IP-hantering.