Nanopure wafer clean

Syfte och mål

Projektet syftar till att validera NSS Waters patenterade teknologi för produktion av nanopure water (NPW) enligt halvledarindustrins standarder. Teknologin möjliggör tillverkning av extremt rent vatten direkt vid användningspunkten (“point of use”), fritt från partiklar större än 5 nm. Detta är avgörande för nästa generations halvledartillverkning, där vattenkvaliteten har direkt påverkan på yield. Vi kommer fokusera på att utveckla en testmetodik samt industriell validering.

Förväntade effekter och resultat

Projektet väntas resultera i att vi kan validera vår teknik genom testmetoder som är industriellt anpassade för halvledarindustrin. Förväntat resultat är att vi har identifierat och utfört standardiserade tester enligt efterfrågade metoder.

Planerat upplägg och genomförande

Projektet genomförs i två arbetspaket. Först utvecklas och optimeras testmetodik vid MC2-labbet på Chalmers, där WET-teknologin testas i liten skala. Därefter valideras systemet industriellt hos Fraunhofer IPMS i Dresden på 12-tumswafers enligt halvledarstandard. Arbetet leds av NSS Water samt med stöd från experter från industrin.