Skalbar metrologi för halvledartillverkning

Syfte och mål

Framstegen inom halvledartillverkning i framkant utmanas i allt högre grad av behovet av mätteknik som är både exakt och skalbar när funktionernas storlek fortsätter att krympa (Moores lag). Detta projekt är dedikerat till att utveckla Dappler Labs innovativa, energieffektiva och ultraskalbara dimensionella mätmetrologiska lösning som utnyttjar kostnadseffektiva och snabba optiska waferinspektionsverktyg.

Förväntade effekter och resultat

Vi kommer att validera sensitivitet hos vår lösning för flera dimensionella mätmetrologiska parametrar i nanoskala av intresse för potentiella kunder. Kärnfunktionaliteten i vår mjukvaruprodukt kommer att utvecklas och släppas till pilotkunder.

Planerat upplägg och genomförande

Vi kommer att testa olika halvledarmönsterprocesser och jämföra vår mätning mot SEM med hjälp av nanotillverkningsanläggningarna på KTH. Vi kommer att ytterligare utöka vårt nätverk inom halvledarindustrin för framtida industriell validering.