MetroQR: Avancerad digital metrologidemonstration för 200 mm waferproduktionsmiljöer

Syfte och mål

Framsteg inom halvledartillverkning i framkanten utmanas allt mer av behovet av metrologi som är både precis och skalbar när funktionsstorlekarna fortsätter att krympa (Moores lag). I samarbete med Obducat Technologies är detta projekt dedikerat till validering i en 200 mm halvledarfabriksmiljö av Dappler Labs:s innovativa, energieffektiva och ultraskalerbara dimensionella metrologilösning som utnyttjar kostnadseffektiva och snabba optiska wafer-inspektionsverktyg.

Förväntade effekter och resultat

Den framgångsrika introduktionen av Dappler Labs:s teknik i industrin kan leda till en drastisk minskning av kostnad, tid och energi för att generera metrologidata i rutinverksamheten i alla halvledarfabriker, och för att generera massiva metrologidataset på nanonivå som krävs för att träna AI-verktyg som utvecklas av industrin för att hantera nuvarande och framväxande tillverkningsutmaningar.

Planerat upplägg och genomförande

Vi kommer att testa MetroQR för utveckling och övervakning av litografi- och etsprocesser inom halvledartillverkning med hjälp av en 200 mm wafer-produktionslinje, och jämföra resultaten som erhålls med Dappler Labs:s teknik mot standardmetrologi som används i fabriken.