Atomic Layer Etching for sub 10 nm semiconductor manufacturing - Proof of Concept

Diarienummer
Koordinator AlixLabs AB
Bidrag från Vinnova 300 000 kronor
Projektets löptid november 2019 - maj 2020
Status Pågående
Utlysning Innovativa startups
Ansökningsomgång Innovativa startups steg 1 (höst 2019)

Syfte och mål

Projektet är ett Proof-of-Concept där vi vill visa att vår patenterade metod för att skapa en topologisk mask för atomlager etsning (ALE) av halvledarkomponenter uppfyller kraven från halvledarindustrin. Dessutom att metoden kan användas till att väsentligt sänka kostnaderna för produktion av komponenter med en mycket liten linjebredd. Vi behöver också visa att metoden skalar upp till industriella volymer i en befintlig processmiljö med godtagbara elektriska och mekaniska egenskaper.

Förväntade effekter och resultat

-Påvisat att vår metod fungerar som förväntat för strukturer under 50 nm och sedan även under 20 resp 10 nm i den mycket modernare utrustning vi nu har tillgång till. -Identifierat, testat och modellerat industriparametrar så långt möjligt på laboratorieutrustning. -Startat diskussioner med industripartner om att sätta upp processen på en industriell basis.

Planerat upplägg och genomförande

-Sätta upp och kalibrera processer och processverifiering: ställa in etsningsprocesser för ALE i en världsklass ALE utrustning. -Testa och variera kritiska processparametrar på laboratorieutrustning för att på så sätt finna styrkor, svagheter och allmän karakteristik för vår metod. -Modellera processen och studera sambandet mellan processimulering och experiment. Utveckla en modell som möjliggör djupare förståelse av mekanismen, och ger feedback till den experimentella delen.

Externa länkar

Texten på den här sidan har projektgruppen själv formulerat. Innehållet är inte granskat av våra redaktörer.