Grön CVD metod för metalldeposition

Viktiga resultat som projektet gav

Ionautics har tillsammans med forskare på Linköpings universitet (LiU) utvecklat en tidsupplöst kemisk beläggningsmetod för syntes av tunna metallfilmer där plasmaelektroner används för den reduktiva ytkemin. Realtidsdata över filmtillväxt har använts för en bättre förståelse för och kontroll över filmdepositionen - både för en självbegränsande och area-selektiv deponering. Metoden är implementerad i ett skalbart beläggningssystem.

Långsiktiga effekter som förväntas

Tidsupplöst e-CVD process har realiserats. Metoden baseras på att sekventiellt utsätta ytan (substratet) för källmolekyler och plasma i pulsade intervaller. Med hjälp av ett nytt diagnosverktyg för realtidsmätning av filmtillväxt har verifierats nettotillväxt av önskad metallfilm samt studerats tillväxtmekanismen i de olika stegen. Lämpliga pulser och pulstider har identifierats, vilket möjliggör beläggning av film med bättre egenskaper. Vetenskaplig publikation inskickad i samarbete med LiU.

Upplägg och genomförande

Projektet gjorde det möjligt för oss att utveckla ny pulsad plasmateknik (process + hårdvara) för syntes av tunnfilm. Vi kunde dessutom formalisera samarbete med forskare på LiU, vilket konkret möjliggjorde de beskrivna framstegen. Forskarna på LiU pekade också ut lämpliga användningsområden (när man ska använda och när man inte ska använda den aktuella tekniken), vilket är mycket värdefullt i marknadsföringen och den fortsatta utvecklingen på området.