Ytkemiska mekanismer vid atomlagerdeponering av oxider vid rumstemperatur för kontrollerad läkemedelsfrisättning
| Diarienummer | |
| Koordinator | Linköpings universitet - Linköpings tekniska högskola Inst f fysik kemi & biologi IFM |
| Bidrag från Vinnova | 500 000 kronor |
| Projektets löptid | oktober 2026 - mars 2028 |
| Status | Pågående |
| Utlysning | Forskningsinfrastrukturer - nyttiggörande och samverkan |
| Ansökningsomgång | Industriellt nyttiggörande av neutron- och synkrotronljusbaserade tekniker - Pilotprojekt och Utvecklingsprojekt 2026 |
Syfte och mål
Atomlagerdeponering (ALD) används för att bygga upp tunna lager av olika material atomlager för atomlager. ALD används bland annat för att bygga upp alla chip till alla datorer och smarta mobiltelefoner. Nanexa är pionjärer på att använda ALD för att kapsla in läkemedelspartiklar med ett skyddande skal som gör att läkemedlet frisätts under lång tid i kroppen. Syftet med projektet är att förstå Nanexas ALD-processer på atomnivå för att Nanexa ska kunna utveckla nya och bättre processer.
Förväntade effekter och resultat
Trots att mycket är känt kring ytkemin i ALD är nästan alla tidigare studier utförda vid höga temperaturer, 100-200 C. Eftersom läkemedelspartiklar är temperaturkänsliga, kommer projektet att studera de ytkemiska reaktionerna i ALD vid väldigt låga temperaturer, nära rumstemperatur. De ytkemiska modeller som tas fram inom projektet kommer användas av Nanexa för att kunna utveckla nya ALD-processer, och i förlängningen nya produkter, utifrån en mycket bättre förståelse för dagens processer.
Planerat upplägg och genomförande
Projektgruppen har redan ansökt om stråltid vid strålröret SPECIES vid MAX IV för att där kunna studera hur kemiska bindningar bryts och bildas på ytor när dessa exponeras för källmolekylerna i en ALD-process. Tekniken som kommer användas kallas röntgenfotoelektronspektroskopi och tack vare den högintensiva röntgenstrålning vid MAX IV kan man göra mätningarna vid samma tryck som i ALD-processer vilket ger en mycket mera rättvis bild av ytkemin än i vanliga labb där mycket lägre tryck krävs.