A paradigm shift in thin film growth by magnetron sputtering: towards metal-ion-controlled process

Diarienummer 2018-04290
Koordinator Linköpings universitet - IFM, Linköping University
Bidrag från Vinnova 491 000 kronor
Projektets löptid november 2018 - november 2019
Status Pågående
Utlysning Banbrytande idéer inom industriell utveckling
Ansökningsomgång Banbrytande idéer inom industriell utveckling 2018

Syfte och mål

Projektet syftar till att utforska nya effekter av ytbeläggningsprocesser med metalljoner istället av gasjoner under filmtillväxt genom förångning i rent vakuum och vidareutveckling av vår unika hybridteknik för HIPIMS/DCMS, med avancerad styrning av den elektriska potentialen på den komponent som ska ytbeläggas. Vi ska utveckla nya PVD processer för nästa generationen av funktionella beläggningar i applikationsområden där svensk industri har världsledande roll.

Förväntade effekter och resultat

Förväntade resultat är fördjupat förståelse av samverkan mellan metalljoner och filmyta under HIPIMS/DCMS-tillväxt samt utveckling av nya metoder för syntes som möjliggör kommande generationer av tunna filmer på temperaturkänsliga substrat med applikationer för hårda beläggningar.

Planerat upplägg och genomförande

Projektet är fördelat i fyra aktiviteter: (WP1) plasmamätningar av metalljonenergi under HIPIMS/DCMS-tillväxt, (WP2) mätningar av jonisationgraden i jonflödet till substrat, (WP3) filmtillväxt, (WP4) filmkarakterisering. WP1 och WP2 ska ge input till WP3. WP4 överlappar delvis med WP3 för att feedback från WP4 ska kunna användas i WP3.

Texten på den här sidan har projektgruppen själv formulerat och innehållet är inte granskat av våra redaktörer.