A paradigm shift in thin film growth by magnetron sputtering: towards metal-ion-controlled process

Diarienummer 2018-04290
Koordinator Linköpings universitet - IFM, Linköping University
Bidrag från Vinnova 491 000 kronor
Projektets löptid november 2018 - november 2019
Status Pågående
Utlysning Banbrytande idéer inom industriell utveckling
Ansökningsomgång Banbrytande idéer inom industriell utveckling - 2018

Syfte och mål

Projektet syftar till att utforska nya effekter av ytbeläggningsprocesser med metalljoner istället av gasjoner under filmtillväxt genom förångning i rent vakuum och vidareutveckling av vår unika hybridteknik för HIPIMS/DCMS, med avancerad styrning av den elektriska potentialen på den komponent som ska ytbeläggas. Vi ska utveckla nya PVD processer för nästa generationen av funktionella beläggningar i applikationsområden där svensk industri har världsledande roll.

Förväntade effekter och resultat

Förväntade resultat är fördjupat förståelse av samverkan mellan metalljoner och filmyta under HIPIMS/DCMS-tillväxt samt utveckling av nya metoder för syntes som möjliggör kommande generationer av tunna filmer på temperaturkänsliga substrat med applikationer för hårda beläggningar.

Planerat upplägg och genomförande

Projektet är fördelat i fyra aktiviteter: (WP1) plasmamätningar av metalljonenergi under HIPIMS/DCMS-tillväxt, (WP2) mätningar av jonisationgraden i jonflödet till substrat, (WP3) filmtillväxt, (WP4) filmkarakterisering. WP1 och WP2 ska ge input till WP3. WP4 överlappar delvis med WP3 för att feedback från WP4 ska kunna användas i WP3.

Texten på denna sida har projektgruppen själv formulerat och innehållet är ej granskat av våra redaktörer.