Robust beläggningsteknik genom plasma kontroll vid ljusbåge

Reference number 2017-04943
Coordinator Linköpings universitet - Department of Physics, Chemistry and Biology (IFM), Linköpings universitet
Funding from Vinnova SEK 300 000
Project duration December 2017 - June 2019
Status Ongoing
Venture Personal mobility between societal sectors
Call 2017-03469-en

Purpose and goal

Detta projektet utgår från en gemensam idé mellan Seco och Linköpings universitet mot att utveckla en robust bågstråle beläggningsteknik genom kontroll av bågstråleplasmats egenskaper. Som tidigare visats vid in-situ studier beror beläggnings egenskaper och funktionalitet av plasmats karakteristik i närheten av substratet (verktyget). En detaljerad förståelse av bågstråleplasmat är således av avgörande betydelse för projektets framgång. Utvecklingsarbetet kommer att skapa ett innovativt partnerskap för kunskapsöverföring och support mellan parterna LiU och Seco.

Expected results and effects

Till stöd för arbetet kommer vi att utveckla metoder och modeller för plasma simuleringar vars resultat, kopplat till beläggningens tillväxtparametrar, erhållen fas- och mikrostruktur samt dess egenskaper kommer att generera en unik utvecklingsplattform för ökad kontroll och tillförlitlighet av beläggningarnas kvalitet och egenskaper. En sådan plattform, integrerad i arbetsflödet, är en nyhet inom verktygsindustrin. Seco’s mål är att på sikt använda denna plattform inom ramen för sin produktutveckling.

Planned approach and implementation

Projektet är uppdelat i tre arbetsområden för vilka vi initialt kommer att fokusera på beläggningar baserade på TiAlN-legeringar: (1) plasma simulering på atomär nivå, (2) plasma karakterisering och (3) design av beläggningens egenskaper genom att ändra plasmaparametrarna. Som tidigare nämnts är ett övergripande mål med projektet att analysera förhållandet mellan plasmaparametrar och beläggnings egenskaper.

The project description has been provided by the project members themselves and the text has not been looked at by our editors.